Wafermaschine WaferMaster

Spezialmessmaschine zur Messung von Wafern

Die Streulichtmethode ist in der Halbleiterindustrie und dort vor allem im Frontendbereich seit vielen Jahren ein fester Bestandteil bei der Messung von Waferoberflächen. Die weitreichenden Erfahrungen mit der Streulichtmesstechnik konnte OptoSurf auch auf Halbleiterflächen übertragen. Die Anwendung siedelt sich hier im Backendbereich bei der Rauheits- und Welligkeitsmessung von rückseitig geschliffenen Si-Wafern an. Diese werden heute bis unter 50 µm Dicke durch Rückseitenschleifen ausgedünnt und dürfen nach dem Polieren nur noch Rauheiten von Ra  = 1 – 3 nm aufweisen.

Mit dem OS 500 Sensor, einem rotierenden Vakuumchuck und einer linearen Sensorbewegung können 300 mm Wafer in weniger als 30 s vollständig gemessen werden. Korrelationsmessungen zeigen, dass die Ergebnisse mit denen von hochauflösenden Weißlichtinterferometern oder Konfokalmikroskopen übereinstimmen. Die vollflächige Messung mit der WaferMaster Messlösung hat den Vorteil, dass lokale Rauheitsunterschiede sichtbar werden und gleichzeitig auch Makrogeometrie (Warpage) und die Welligkeit (Nanotopographie) gemessen werden kann.

Rauheits- und Welligkeitsmessung im Nanometerbereich

Software WaferMaster

Bedieneroberfläche des WaferMaster Messsystems

Links: Rauheitsmessung
Rechts: Welligkeit

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